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真空等離子清洗機(jī)是一種利用真空環(huán)境下的等離子體進(jìn)行表面清洗和處理的設(shè)備。工作原理:在真空環(huán)境中,通過射頻或微波激發(fā)工藝氣體,使其電離形成等離子體。這些高活性粒子通過物理轟擊和化學(xué)反應(yīng),去除材料表面的有機(jī)物、氧化物及微小顆粒,實(shí)現(xiàn)無(wú)殘留、高精度的表面處理。真空等離子清洗機(jī)集成的控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)通過多維度技術(shù)整合,顯著提升了設(shè)備操作的便捷性、工藝穩(wěn)定性和智能化水平。以下是其核心設(shè)計(jì)要點(diǎn)及對(duì)操作便利性的提升:1.模塊化硬件架構(gòu)核心部件協(xié)同:控制系統(tǒng)以PLC或嵌入式處理器為核心,集成氣體...
12-15
靜電消除技術(shù)在現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)中扮演著至關(guān)重要的角色,特別是在電子制造、印刷包裝、紡織化纖等對(duì)靜電控制要求嚴(yán)格的行業(yè)。等離子風(fēng)棒作為新一代靜電消除設(shè)備,與傳統(tǒng)靜電消除器相比,在技術(shù)原理、性能指標(biāo)和應(yīng)用效果上展現(xiàn)出顯著優(yōu)勢(shì)。一、工作原理對(duì)比1、工作原理等離子風(fēng)棒(離子風(fēng)棒)是一種固定式靜電消除的專用設(shè)備,其核心原理是通過高壓發(fā)生器產(chǎn)生高速流動(dòng)的正負(fù)離子氣流。當(dāng)高壓電源將輸入電壓升至5.6KV以上時(shí),放電針尖的頂端產(chǎn)生電暈放電,將空氣分子電離成大量帶有正負(fù)電荷的氣團(tuán)。這些離子氣流被壓...
12-12
寬幅等離子清洗機(jī)采用穩(wěn)定性高的移相全橋軟開關(guān)電路,擁有數(shù)字通信及模擬通信兩種數(shù)據(jù)傳輸方式,通過ARM芯片強(qiáng)大的數(shù)據(jù)處理功能,實(shí)現(xiàn)設(shè)備數(shù)字化控制,客戶產(chǎn)線,可達(dá)到控制系統(tǒng)統(tǒng)一監(jiān)控,使清洗效果更穩(wěn)定、更持久,抗干擾性能增強(qiáng),減低故障率,控制維護(hù)成本,提高產(chǎn)能,有效減低生產(chǎn)成本。寬幅等離子清洗機(jī)的6種檢測(cè)功能分析如下:1.氣壓檢測(cè)實(shí)時(shí)監(jiān)控工藝氣體壓力,確保等離子體生成穩(wěn)定性。氣壓波動(dòng)會(huì)直接影響等離子體的密度和活性組分分布,進(jìn)而影響清洗效果。該功能通過傳感器實(shí)時(shí)反饋氣壓數(shù)據(jù),避免因氣...
12-11
在半導(dǎo)體制造工藝不斷向納米級(jí)制程演進(jìn)的過程中,半導(dǎo)體等離子清洗機(jī)已從"可選設(shè)備"轉(zhuǎn)變?yōu)楫a(chǎn)線良率提升的"剛需裝備"。這一轉(zhuǎn)變背后,是半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)表面潔凈度要求的指數(shù)級(jí)提升——當(dāng)芯片線寬縮小至3nm甚至更先進(jìn)節(jié)點(diǎn)時(shí),納米級(jí)的污染物都可能導(dǎo)致封裝失效,而傳統(tǒng)濕法清洗已難以滿足這種原子級(jí)清潔需求。一、良率提升的底層邏輯:從"可選項(xiàng)"到"必選項(xiàng)"技術(shù)門檻的跨越等離子清洗機(jī)通過在高真空環(huán)境下激發(fā)氣體產(chǎn)生等離子體,利用高能粒子轟擊和活性自由基化學(xué)反應(yīng),實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面的分子級(jí)清潔。與傳統(tǒng)濕法...
12-8
大氣等離子清洗機(jī)是一種利用等離子體在常壓環(huán)境下對(duì)材料表面進(jìn)行清洗、活化和涂層處理的高新技術(shù)設(shè)備,通過高頻電源或微波能量激發(fā)工作氣體,使氣體分子電離形成等離子體。這些等離子體包含高能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子,它們與材料表面接觸時(shí),通過物理轟擊和化學(xué)反應(yīng)兩種作用實(shí)現(xiàn)清洗效果大氣等離子清洗機(jī)主要由高壓激勵(lì)電源、等離子發(fā)生裝置噴槍、控制系統(tǒng)三個(gè)結(jié)構(gòu)組成,以下是具體介紹:1.高壓激勵(lì)電源:等離子體的產(chǎn)生需要高壓激勵(lì),等離子清洗機(jī)采用中頻電源進(jìn)行激勵(lì),頻率在20-40KHz,高壓則...
12-3
攻克微米級(jí)膠渣殘留,是確保PCB(印刷電路板)高密度互連可靠性的核心挑戰(zhàn)。等離子除膠機(jī)憑借其非接觸式、高均勻性與精準(zhǔn)可控的物理化學(xué)協(xié)同作用,成為破解此難題的關(guān)鍵技術(shù)。其破解之道,主要體現(xiàn)在以下三個(gè)方面:1.各向異性刻蝕與尺寸精準(zhǔn)控制等離子體中的高能離子在電場(chǎng)驅(qū)動(dòng)下,能近乎垂直地轟擊孔壁表面。這種定向轟擊使垂直方向的化學(xué)反應(yīng)速率遠(yuǎn)大于水平方向,從而實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕。這尤其對(duì)于清理深微盲孔或通孔底部的膠渣至關(guān)重要,它能有效清除殘留,同時(shí)程度保護(hù)孔側(cè)壁的玻璃纖維等基材不被過度侵蝕,...
12-2
plasma清洗機(jī)使用效果很好,在清洗效率、環(huán)保性、適用性、處理效果均勻性及成本效益方面均表現(xiàn)優(yōu)異,具體分析如下:1.清洗效率與效果高效去污:清洗機(jī)通過激勵(lì)電源將氣體離化成等離子態(tài),等離子體中的活性組分(如離子、電子、自由活性基團(tuán)等)能夠深入物體微細(xì)孔眼和凹陷內(nèi)部,有效清除表面污染物,包括有機(jī)污染物、顆粒雜質(zhì)等。表面改性:在清洗的同時(shí),等離子體還能對(duì)材料表面進(jìn)行改性處理,如提高表面潤(rùn)濕性能、改善膜的黏著力等。這對(duì)于許多應(yīng)用來(lái)說至關(guān)重要,如提高膠粘、焊接、印刷、涂覆、鍍膜等工藝...
11-28
在制造領(lǐng)域,如微電子、醫(yī)藥、精密儀器生產(chǎn)車間,一粒微塵就可能導(dǎo)致產(chǎn)品良率的驟降。為了實(shí)現(xiàn)并維持“無(wú)塵環(huán)境”,工程師們付出了巨大努力:高效的空氣過濾系統(tǒng)、嚴(yán)格的人員凈化流程、密閉的生產(chǎn)設(shè)備……然而,一個(gè)看不見的“敵人”卻在持續(xù)破壞這些努力——它就是靜電。而等離子風(fēng)棒,正是專門馴服這個(gè)隱形敵人的高科技產(chǎn)品,成為潔凈環(huán)境中的“隱形守護(hù)者”。它究竟是如何工作的?本文將為您深入解析。一、靜電:無(wú)塵環(huán)境的“頭號(hào)破壞者”在深入原理之前,我們首先要明白靜電在無(wú)塵環(huán)境中的三大危害:1、吸附塵埃...
11-26
等離子去膠機(jī)在2.5D/3DIC封裝中通過清除光刻膠殘留、保障高密度互連質(zhì)量和提升工藝可靠性三大核心機(jī)制來(lái)保障封裝良率。一、清除光刻膠殘留,避免短路故障在2.5D/3D封裝中,光刻膠的無(wú)損去除直接決定了封裝良率與長(zhǎng)期可靠性。傳統(tǒng)濕法去膠在面對(duì)復(fù)雜三維結(jié)構(gòu)、敏感材料和嚴(yán)苛尺度時(shí)局限性凸顯,而等離子干法去膠技術(shù)利用高能等離子體去除光刻膠,去膠速度快,無(wú)需引入化學(xué)物質(zhì),避免造成材料損傷。關(guān)鍵應(yīng)用場(chǎng)景包括:-重布線層(RDL):在扇出型封裝(FOWLP)或硅/玻璃/有機(jī)中介層上制作高...
11-19
等離子風(fēng)棒是一種利用等離子體技術(shù)進(jìn)行靜電消除和空氣凈化的工業(yè)設(shè)備,主要用于解決靜電積聚和微粒污染問題。以下是其核心功能和應(yīng)用場(chǎng)景的詳細(xì)說明:1、核心功能-靜電消除通過高壓電離空氣產(chǎn)生正負(fù)離子,中和物體表面靜電(如薄膜、電子元件、紙張等),防止靜電吸附灰塵或引發(fā)火花(ESD防護(hù))。-除塵凈化離子風(fēng)棒附帶的氣流可吹走帶電微粒(如粉塵、纖維),同時(shí)等離子體中的活性粒子(如臭氧、自由基)能分解有機(jī)物,實(shí)現(xiàn)殺菌和除味。-無(wú)耗材維護(hù)無(wú)需濾芯或化學(xué)劑,僅需定期清潔電極,長(zhǎng)期使用成本低。2、...
11-7
全自動(dòng)鍍層測(cè)厚儀是現(xiàn)代工業(yè)質(zhì)量檢測(cè)的關(guān)鍵設(shè)備,其核心技術(shù)在于針對(duì)不同基材和鍍層,采用優(yōu)化的測(cè)量原理。X射線熒光(XRF)與電渦流技術(shù)的雙模融合,正是為了大化測(cè)量范圍、精度和效率而設(shè)計(jì)的先進(jìn)解決方案。這兩種技術(shù)原理迥異,優(yōu)勢(shì)互補(bǔ),共同構(gòu)成了一個(gè)強(qiáng)大的測(cè)量體系。X射線熒光(XRF)測(cè)量原理:XRF技術(shù)是一種基于原子級(jí)激發(fā)的物理方法。儀器發(fā)出的高能X射線照射到樣品表面,激發(fā)鍍層和基體材料中的原子內(nèi)層電子。當(dāng)被激發(fā)的原子恢復(fù)穩(wěn)定時(shí),會(huì)釋放出特定能量的二次X射線(即熒光)。通過探測(cè)和分...